拉霸LABA360_主页二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。如:硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工。
根據不同的拋光要求可分為不同粒度(10~150 nm)的產品。根據pH值的不同可分為酸性拋光液和堿性拋光液。
拉霸LABA360_主页二氧化硅拋光液的特點:
1、高拋光速度,利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目地.
2、粒度可控,根據不同需要,可生產不同粒度的產品(10-150 nm)
3、高純度(Cu含量小于50 ppb),有效減小對電子類產品的沾污.
高平坦度加工,本品拋光利用SiO2的膠體粒子,不會對加工件造成物理損傷,達到高平坦化加工.
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